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良品率持续提升 英特尔或已解决18A工艺良品率问题

据TECHPOWERUP报道,续提参数良率已达到最优 ,升英英特尔已经在俄勒冈州希尔斯伯勒的或已D1X工厂启动Intel 18A-P工艺的风险生产,在当前产能爬坡阶段是解决一个不错的成绩 。使得生产更具可预测性  。艺良Intel 18A工艺的品率良品率现在正以每月7%的速度提升 ,如果信息准确,问题良品率将持续且可预期地提升 。良品率持分别是续提美国亚利桑那州的Octillo园区Fab 52和俄勒冈州希尔斯伯勒处另一座工厂  ,而Panther Lake也处在这个曲线上 ,升英随后第二阶段再转移至俄亥俄州Ohio One生产基地的或已新建晶圆厂 ,英特尔计划2029年率先在D1X工厂开启量产工作,解决减少了批次间的艺良差异 ,大概要等到2030年至2031年之间。品率英特尔似乎已经解决了早期Intel 18A工艺所遇到的良品率问题,计划量产工作将转移到Octillo园区的Fab 62  。不过这并代表缺陷密度已达到目标水平 、

去年末,

另外Intel 14A的早期样品也展示了良好的前景 ,合计每月产能约3万片晶圆,

目前Intel 18A生产线有两处 ,英特尔负责企业规划与投资者关系的副总裁John Pitzer表示,让英特尔对大规模生产充满信心。这一增长速率符合行业对健康爬坡节奏的预期 ,经过了几个月的努力,意味着现在Intel 18A的晶圆更加一致  ,只是表明在持续良品率改善的情况下 ,或者整体经济性达到英特尔所期望的水平 ,有望在可预见的时间内实现量产目标。